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一大陆工程人员在美遭窃取商业秘密的起诉

发布时间:2015-05-15 11:19商业秘密网点击率:手机版

《洛杉矶时报》:一大陆工程人员在美遭窃取商业秘密的起诉   (Silicon Valley Espionage Case Heading to Trial)   根据联邦法官的命令,一个可能对从硅谷到上海的技术型企业都有深刻影响的经济间谍案,将继续从今年六月开始的民事陪审团审判(civil jury trial)。在加州硅谷圣荷塞(San Jose)的两名中国商人Fei Ye和Ming Zhong,于2001年11月在旧金山国际机场被捕。据称两人行李内装有商业秘密,还携带至少价值一万美元的从美国技术公司盗来的设备。检察官称,这两位来自中国的商人从Sun Microsystems Inc., NEC Electronics Corp., Transmeta Corp.和Trident Microsystems Inc.这四家公司盗取了芯片设计图和计算机辅助设计草案,计划今后与中国政府一道开设微处理器制造厂。   上月,被告人的辩护律师在联邦法庭争辩道,此案应该撤销,因为十项犯罪起诉很含糊,1996年颁布的经济间谍法是违宪的。律师称,被告者行李箱内的常规参考材料是任何一个工程师都可能携带的资料,假如有任何商业秘密,他们也不知道。   但美国地区法官James Ware在11月3日的命令中拒绝了撤销此案的动议。他称联邦检察官移交了极有深度和广度的证据,包括8800多页与商业秘密有关文件。据普华永道会计师行一份研究称,盗窃商业秘密案使美国最大的1000家公司每年损失约450亿美元以上,但几乎没有企业高管人员了解这些秘密是如何被盗的,即使了解此事,也无人愿意承认。   如果两被告被判有罪,他们将面临95年的牢狱生活和高达300万美元罚款。

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